![](https://eiti.pl/wp-content/uploads/2020/06/bg.jpg)
09 cze TSMC przygotuje nieplanowany wcześniej 4nm proces litograficzny
Tirma TSMC (Taiwan Semiconductor Manufacturing Company) poinformowała dziś, że zamierza udostępnić swoim klientom nieplanowany dotychczas proces litograficzny. Nowy proces, nazwany 4nm, zostanie udostępniony do masowej produkcji w 2023 roku, i ma stanowić dodatkową opcję wyboru dla klientów firmy. Litografia 4nm będzie wywodzić się z wcześniejszych trzech wersji procesów 5nm (N5, N5P, N5+) oraz wykorzystywać te same reguły projektowe i te same linie produkcyjne i osprzęt, oferując przy tym większą gęstość i wydajność tranzystorów niż N5+
Sorry, the comment form is closed at this time.